公司联合哈尔滨工业大学，四川大学等国内知名大学共同研发，以及在国内从事电磁屏蔽行业多年的专家学者的指导下，公司研发出全新一代WSLD系列电磁屏蔽膜。

      全新一代国产透明电磁屏蔽膜克服了电磁网格线暴露在外易被误划伤的缺点，以及在屏蔽液晶面板时出现干涉条纹的现象，对屏蔽膜进行了全新的设计，基材采用3H抗刮聚酯，将网格置于中间层得到全面保护，选用特种光学级胶让干涉条纹消除。全新一代屏蔽膜对目前主流液晶屏不用调角度，无干涉条纹的现象，动态与静态影像不失真，无色差，无网纹，视觉自然。光学胶具有耐高温不氧化性能，可长期在阳光暴晒下不发黄，不变色，不产生色差，可以作为特种建筑视窗屏蔽使用。
       全新一代的WSLD系列透明电磁屏蔽膜同时也解决了国产屏蔽膜宽幅短小，不能满足大型建筑视窗屏蔽的难题，我公司首批开工生产的屏蔽膜宽幅达到了1.5米宽幅，能够满足各类大型建筑视窗电磁屏蔽需求。
       再次感谢电磁屏蔽膜行业内的专家学者的通力合作，让国产屏蔽膜在性能上赶超国外同类产品。